EUV 관련주 – 차세대 반도체 공정의 핵심! 수혜주?
반도체 EUV 공정이란 포토공정에서 극자외선 파장의 광원을 사용하는 리소그래피 기술을 활용한 제조공정입니다.
반도체 칩에는 웨이퍼라는 실리콘 기반의 원판을 포토공정 설비에서 회로 패턴을 새겨 넣기 위해 레이저 광원을 웨이퍼에 투사하는 노광 작업을 진행합니다.
이 칩 안에 미세한 회로소자 수십억개를 형성하는 과정에서 노광 단계를 거치는데 이 과정에서 기존의 공정인 불화 아르곤 광원보다 파장이 짧은 극자외선 EUV 광원을 활용합니다.
극자외선 EUV로 노광 작업을 하면 반도체 회로 패턴을 더욱 세밀하게 제작할 수 있고 공정 수를 줄여 생산성을 높이고 고성능을 확보할 수 있습니다.
EUV 노광장비 기업인 ASML은 생산량을 확대하고 본격적으로 도입하고 있습니다.
기존에는 시스템 반도체 공정에만 활용되었지만 최근 D 램의 칩 크기 축소, 집적도 고 밀화, 생산성 향상에도 적용되면서 EUV의 공정이 주목받고 있습니다.
차세대 반도체 공정의 핵심이되는 EUV 관련주 자세히 알아보겠습니다.
삼성전자
EUV 관련주 편입 이유
삼성전자는 7나노 이하 반도체 생산에 필수적인 극자외선(EUV) 공정에 대규모 투자를 하고 있어 국내 EUV 소재 및 부품 관련 생태계가 본격적으로 커질 것으로 예상되고 있습니다.
에프에스티
EUV 포토마스크용 보호막인 펠리클을 국내에서 유일하게 제조하고 있습니다.
식각 공정에서 Chamber 내의 온도 조건을 안정적으로 제어하는 온도조절장비인 칠러를 생산 및 판매하는 반도체 재료장비 전문 기업입니다.
EUV 관련주 편입 이유!
극자외선(EUV) 팰리클 뿐만 아니라 펠리클 프레임, 플라스틱 케이스, 마운트 장비 등 EUV 공정에 필요한 모든 것을 개발하며 토탈 솔루션 기업으로 자리매김하고 있습니다.
에스앤에스텍
반도체 및 TFT LCD 생산에 쓰이는, 노광 공정의 핵심 재료인 포토마스크의 원재료로서 패턴이 노광 되기 전 마스크인 블랭크 마스크 제조 및 판매를 영위하고 있습니다.
EUV 관련주 편입 이유!
EUV 용 펠리클과 블랭크마스크를 기술 개발과 양산을 위한 설비투자를 공시한 바 있습니다.
삼성전자의 지분투자 이후 고객사내 점유율이 최근 국산화 추세와 발맞춰 증가할 것으로 예상됩니다.
엘오티베큠
반도체용 건식진공펌프의 제조, 판매, 수리 등을 영위하고 있습니다.
반도체 공정용 진공펌프 및 디스플레이 반도체 공정 장비용 초고진공 터보 분자펌프 개발 2건이 국책과제로 선정되었습니다.
EUV 관련주 편입 이유!
기존 공정보다 복잡한 EUV 노광 공정은 다수의 고성능 진공펌프를 필요로 하는데 EUV 장비를 생산하는 ASML에 영국의 에드워드사가 진공펌프를 주로 공급하고 있습니다.
삼성전자가 지분을 투자하고 기술 개발하는 데 적극적으로 도움을 주면서 국산화 협력을 진행하고 있습니다
코미코
반도체 부품의 세정과 코팅을 주사업으로 영위하고 있습니다.
정밀세정, 코팅 기술을 기반으로 열처리 사업을 신규로 진출 중입니다.
EUV 관련주 편입 이유!
EUV 등 반도체 공정 미세화에 따라 파티클 관리는 더욱 중요해지고 부품 세정/코팅의 중요성이 확대되고 있어 주목받고 있습니다.
원익IPS
원익홀딩스 사업 중 반도체, Display 및 Solar 장비의 제조사업 부문이 인적분할되어 재상장되었습니다.
매출 구성은 제품(반도체/Display/Solar Cell 제조 장비) 94.46%, 기타(장비 및 장치 유지 보수에 필요한 부품, 기술용역 등) 5.54%입니다.
함께보면 좋은 글 시스템반도체 관련주 - 수혜주 및 대장주? 테슬라 관련주 기업분석을 통한 대장주 및 수혜주 예측 구리 관련주 – 인플레이션 수혜주, 원자재 슈퍼사이클 온다! 비철금속 관련주 – 원자재 슈퍼사이클 수혜주 및 대장주?